Набор растровых пленок различной линеатуры (200, 250, 300 и 350 lpi) предназначен для вторичной засветки фотополимерных и стальных клише.

Растровая пленка необходима для формирования на клише опорных точек, которые препятствуют опусканию ракельного ножа в глубину печатного элемента. В противном случае ракельный нож уберет краску не только с поверхности клише, но и из глубины печатного элемента, что приведет к неравномерности красочного слоя на оттиске. Использование растра различной линеатуры  позволяет регулировать глубину печатных элементов получаемого клише при промывке,  что позволяет добиваться наилучшего качества оттиска в зависимости от дизайна, запечатываемого материала, типа краски и скорости работы.